|
Влияние морфологии поверхности слоев InAlAs на температурные зависимости параметров диодов Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs (001)
И. Б. Чистохинa, М. С. Аксеновab, Н. А. Валишеваa, Д. В. Дмитриевa, И. В. Марчишинa, А. И. Тороповa, К. С. Журавлевab a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
Аннотация:
Изучено влияние ростовых структурных дефектов поверхности слоев InAlAs, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках InP (001), на температурные зависимости вольт-амперных характеристик барьеров Шоттки Au/Ti/InAlAs. Показано, что дефекты в виде ямок являются причиной возникновения областей с пониженной высотой барьера, которые при плотности $\ge$ 10$^{7}$ cm$^{-2}$ оказывают существенное влияние на параметры барьера Шоттки при температурах ниже 200 K.
Поступила в редакцию: 27.11.2018 Исправленный вариант: 27.11.2018 Принята в печать: 30.11.2018
Образец цитирования:
И. Б. Чистохин, М. С. Аксенов, Н. А. Валишева, Д. В. Дмитриев, И. В. Марчишин, А. И. Торопов, К. С. Журавлев, “Влияние морфологии поверхности слоев InAlAs на температурные зависимости параметров диодов Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs (001)”, Письма в ЖТФ, 45:4 (2019), 59–62; Tech. Phys. Lett., 45:2 (2019), 180–184
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5539 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v45/i4/p59
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 31 | PDF полного текста: | 10 |
|