|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Изучение характеристик транзисторов на гетероструктурах нитрида галлия, выращенных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках сапфира и кремния
А. А. Андреев, Ю. В. Грищенко, И. С. Езубченко, М. Я. Черных, Е. М. Колобкова, И. О. Майборода, И. А. Черных, М. Л. Занавескин Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
Аннотация:
Методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии выращены нитридные гетероструктуры на подложках сапфира и кремния. На их основе созданы транзисторы с периферией 1.2 mm. Транзисторы на подложках обоих типов демонстрируют схожие высокие статические характеристики: ток насыщения более 0.75 A/mm, крутизна более 300 mS/mm, напряжение пробоя выше 120 V. Измерения малосигнальных параметров свидетельствуют о большей величине усиления транзисторов на подложках кремния в диапазоне до 5 GHz. Удельная мощность на частоте 1 GHz составляет для транзисторов на подложке сапфира 5 W/mm, на подложке кремния – 2 W/mm.
Поступила в редакцию: 22.10.2018 Исправленный вариант: 26.10.2018 Принята в печать: 28.10.2018
Образец цитирования:
А. А. Андреев, Ю. В. Грищенко, И. С. Езубченко, М. Я. Черных, Е. М. Колобкова, И. О. Майборода, И. А. Черных, М. Л. Занавескин, “Изучение характеристик транзисторов на гетероструктурах нитрида галлия, выращенных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках сапфира и кремния”, Письма в ЖТФ, 45:4 (2019), 52–54; Tech. Phys. Lett., 45:2 (2019), 173–175
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5537 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v45/i4/p52
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 56 | PDF полного текста: | 15 |
|