|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Фоторефрактивная подстройка коэффициента деления интегрально-оптического направленного $X$-ответвителя на подложке ниобата лития
М. В. Парфеновab, А. В. Троневac, И. В. Ильичевa, П. М. Агрузовa, А. В. Шамрайa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
Аннотация:
Исследована возможность подстройки коэффициента деления мощности в интегрально-оптическом направленном ответвителе ($X$-ответвителе) при возбуждении локального фоторефрактивного отклика в материале подложки (LiNbO$_{3}$). Проведено численное моделирование работы $X$-ответвителя, определены его участки, обладающие максимальной чувствительностью к фоторефракции. Получено соответствие расчетных данных и эксперимента. Максимальное изменение коэффициента деления в разветвителе составило величину порядка 1–2%. Фоторефрактивная подстройка коэффициента использована для повышения контраста модулятора Маха–Цендера до уровня 47 dB.
Поступила в редакцию: 05.12.2018 Исправленный вариант: 05.12.2018 Принята в печать: 06.12.2018
Образец цитирования:
М. В. Парфенов, А. В. Тронев, И. В. Ильичев, П. М. Агрузов, А. В. Шамрай, “Фоторефрактивная подстройка коэффициента деления интегрально-оптического направленного $X$-ответвителя на подложке ниобата лития”, Письма в ЖТФ, 45:5 (2019), 3–5; Tech. Phys. Lett., 45:3 (2019), 187–189
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5505 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v45/i5/p3
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 40 | PDF полного текста: | 12 |
|