|
Особенности импульсного лазерного отжига пленок ВС$_{3}$ на сапфировой подложке
В. Ю. Фоминскийa, Р. И. Романовa, A. A. Соловьевa, И. С. Васильевскийa, Д. А. Сафоновa, А. А. Ивановa, П. В. Зининb, В. П. Филоненкоc a Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
b Научно-технологический центр уникального приборостроения РАН
c Институт физики высоких давлений им. Л. Ф. Верещагина РАН
Аннотация:
Исследованы морфология, химический состав, микроструктура и электрические свойства тонких пленок ВС$_{3}$, подвергнутых плавлению наносекундным лазерным импульсом. Исходные пленки создавались импульсным лазерным соосаждением В и С на сапфировую подложку при 150 и 350$^\circ$C. Морфологические изменения в пленках зависели от их исходного структурного состояния. Однако “замораживаемая” после облучения структура в обеих пленках соответствовала В-насыщенной графитоподобной фазе, локальный состав которой варьировался вследствие образования включений аморфного карбида бора. До и после облучения пленки проявляли слабо убывающую с ростом температуры от 4.2 до 330 K зависимость поверхностного сопротивления. После лазерного облучения сопротивление пленок уменьшилось в $\sim$2.6 раза.
Поступила в редакцию: 01.02.2019 Исправленный вариант: 01.02.2019 Принята в печать: 13.02.2019
Образец цитирования:
В. Ю. Фоминский, Р. И. Романов, A. A. Соловьев, И. С. Васильевский, Д. А. Сафонов, А. А. Иванов, П. В. Зинин, В. П. Филоненко, “Особенности импульсного лазерного отжига пленок ВС$_{3}$ на сапфировой подложке”, Письма в ЖТФ, 45:9 (2019), 26–29; Tech. Phys. Lett., 45:5 (2019), 446–449
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5449 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v45/i9/p26
|
|