|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Ионно-лучевое осаждение тонких пленок AlN на Al$_{2}$O$_{3}$
Л. С. Лунинab, О. В. Девицкийac, И. А. Сысоевc, А. С. Пащенкоab, И. В. Касьяновc, Д. А. Никулинc, В. А. Ирхаa a Федеральный исследовательский центр Южный научный центр РАН, Ростов-на-Дону, Россия
b Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) им. М.И. Платова, Новочеркасск, Россия
c Северо-Кавказский федеральный университет, Ставрополь, Россия
Аннотация:
Методом ионно-лучевого осаждения на сапфировых подложках выращены тонкие пленки AlN. Методами сканирующей электронной микроскопии, комбинационного рассеяния и оптической спектроскопии выявлены зависимости влияния параметров ионно-лучевого осаждения (состав рабочей газовой смеси, энергия ионного пучка, температура подложки) на морфологию, структуру и оптические свойства тонких пленок AlN на сапфире.
Ключевые слова:
ионно-лучевое осаждение, широкозонные полупроводники, нитрид алюминия, нитрид галлия, сапфир.
Поступила в редакцию: 31.07.2019 Исправленный вариант: 31.07.2019 Принята в печать: 17.09.2019
Образец цитирования:
Л. С. Лунин, О. В. Девицкий, И. А. Сысоев, А. С. Пащенко, И. В. Касьянов, Д. А. Никулин, В. А. Ирха, “Ионно-лучевое осаждение тонких пленок AlN на Al$_{2}$O$_{3}$”, Письма в ЖТФ, 45:24 (2019), 21–24; Tech. Phys. Lett., 45:12 (2019), 1237–1240
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5236 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v45/i24/p21
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 63 | PDF полного текста: | 44 |
|