Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2020, том 46, выпуск 5, страницы 34–37
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.05.49106.18034 (Mi pjtf5171) 		 
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)

Пространственное распределение каналируемых ионов и пробеги изотопов водорода в кристаллическом кремнии и вольфраме

Д. С. Мелузова, П. Ю. Бабенко, А. П. Шергин, А. Н. Зиновьев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
PDF полного текста (603 kB) Список цитирования (3)
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.05.49106.18034
Аннотация: Рассчитаны пробеги ионов H, D в кристаллическом Si и W. Показано, что с ростом энергии ионов распределение пробегов по глубине распадается на две компоненты: одна связана с рассеянием атомов в поверхностных слоях, а другая характеризует частицы, захваченные в канал. Обнаружено новое явление: после прохождения небольшого расстояния формируется устойчивая пространственная структура компоненты пучка, захваченной в канал. При торможении ионов начинается переход частиц в соседние каналы, и вблизи точки остановки пространственная структура пучка частиц, захваченных в канал, разрушается. Предложена схема эксперимента, позволяющая связать полученное пространственное распределение с угловыми распределениями вылетевших частиц.
Ключевые слова: каналирование, пространственное распределение, кристалл, пробеги.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации
Работа выполнена в рамках государственного задания Министерства образования и науки РФ для Федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технического института им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук.
Поступила в редакцию: 12.09.2019
Исправленный вариант: 12.09.2019
Принята в печать: 06.12.2019
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2020, Volume 46, Issue 3, Pages 235–238
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785020030104
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Д. С. Мелузова, П. Ю. Бабенко, А. П. Шергин, А. Н. Зиновьев, “Пространственное распределение каналируемых ионов и пробеги изотопов водорода в кристаллическом кремнии и вольфраме”, Письма в ЖТФ, 46:5 (2020), 34–37; Tech. Phys. Lett., 46:3 (2020), 235–238
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{MelBabShe20}
\by Д.~С.~Мелузова, П.~Ю.~Бабенко, А.~П.~Шергин, А.~Н.~Зиновьев
\paper Пространственное распределение каналируемых ионов и пробеги изотопов водорода в кристаллическом кремнии и вольфраме
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2020
\vol 46
\issue 5
\pages 34--37
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf5171}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.05.49106.18034}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=42776934}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2020
\vol 46
\issue 3
\pages 235--238
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785020030104}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5171
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i5/p34
    • Эта публикация цитируется в следующих 3 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:57
    PDF полного текста:19
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024