|
Формирование бикристаллических пленок ZnO на ромбоэдрической плоскости сапфира при высоких скоростях роста
А. Э. Муслимовa, А. М. Исмаиловb, А. Ш. Асваровac, В. А. Бабаевb, В. М. Каневскийa a Институт кристаллографии им. А. В. Шубникова а ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Москва, Россия
b Дагестанский государственный университет, г. Махачкала
c Институт физики им. Х. И. Амирханова ДНЦ РАН
Аннотация:
Предложена методика формирования бикристаллической пленки ZnO c использованием особенностей метода магнетронного распыления и ориентирующего действия ромбоэдрической плоскости сапфира. Показано, что при последовательном использовании двух режимов осаждения ($\sim$2 и $\sim$16 nm/s) формируется бикристаллическая пленка с (110)-ориентированным нижним подслоем и (002)-ориентированным верхним. Рекристаллизационный отжиг при 1000$^\circ$C в течение 10 h не влияет на верхний
(002)-ориентированный слой и приводит к релаксации напряжений в нижнем (110)-ориентированном слое.
Ключевые слова:
оксид цинка, дифракция, бикристаллические пленки.
Поступила в редакцию: 05.07.2019 Исправленный вариант: 17.03.2020 Принята в печать: 17.03.2020
Образец цитирования:
А. Э. Муслимов, А. М. Исмаилов, А. Ш. Асваров, В. А. Бабаев, В. М. Каневский, “Формирование бикристаллических пленок ZnO на ромбоэдрической плоскости сапфира при высоких скоростях роста”, Письма в ЖТФ, 46:11 (2020), 51–54; Tech. Phys. Lett., 46:6 (2020), 568–571
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5094 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i11/p51
|
|