|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Эффект спиновой аккумуляции в эпитаксиальной структуре Fe$_{3}$Si/$n$-Si и влияние на него электрического смещения
А. С. Тарасовab, А. В. Лукьяненкоab, И. А. Бондаревab, И. А. Яковлевa, С. Н. Варнаковa, С. Г. Овчинниковab, Н. В. Волковab a Институт физики им. Л. В. Киренского СО РАН, г. Красноярск
b Институт инженерной физики и радиоэлектроники Сибирского федерального университета, г. Красноярск
Аннотация:
Продемонстрирована электрическая инжекция спин-поляризованного тока в кремний в эпитаксиальной структуре Fe$_{3}$Si/$n$-Si. Эффект спиновой аккумуляции исследовался при помощи измерения локального и нелокального напряжения в специально подготовленном четырехтерминальном устройстве. Обнаруженный эффект влияния электрического смещения на спиновый сигнал обсуждается и сравнивается с другими результатами, полученными для структур ферромагнетик/полупроводник.
Ключевые слова:
силицид железа, структуры ферромагнетик/полупроводник, эффект Ханле, спиновая аккумуляция, электрическая спиновая инжекция.
Поступила в редакцию: 08.11.2019 Исправленный вариант: 19.02.2020 Принята в печать: 06.04.2020
Образец цитирования:
А. С. Тарасов, А. В. Лукьяненко, И. А. Бондарев, И. А. Яковлев, С. Н. Варнаков, С. Г. Овчинников, Н. В. Волков, “Эффект спиновой аккумуляции в эпитаксиальной структуре Fe$_{3}$Si/$n$-Si и влияние на него электрического смещения”, Письма в ЖТФ, 46:13 (2020), 43–46; Tech. Phys. Lett., 46:7 (2020), 665–668
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5064 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i13/p43
|
|