|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Порообразование в тонких пленках германия при имплантации ионов Ge$^{+}$
Н. М. Лядовa, Т. П. Гавриловаa, С. М. Хантимеровa, В. В. Базаровa, Н. М. Сулеймановa, В. А. Шустовa, В. И. Нуждинa, И. В. Янилкинb, А. И. Гумаровb, И. А. Файзрахмановa, Л. Р. Тагировab a Казанский физико-технический институт им. Е. К. Завойского, КазНЦ РАН
b Институт физики Казанского федерального университета
Аннотация:
Представлены результаты исследования морфологии наноструктурированных ионной имплантацией пленок германия. Образцы пленок были выращены с использованием метода магнетронного распыления на сверхвысоковакуумной установке и затем облучены ионами Ge$^{+}$ с энергией 40 keV в интервале доз (1.8–8) $\cdot$ 10$^{16}$ ion/cm$^{2}$. Методом сканирующей электронной микроскопии установлено, что с увеличением дозы имплантации в объеме имплантированного германия постепенно формируются вакансионные комплексы диаметром $\sim$50–150 nm, которые при достижении определенной дозы имплантации выходят на поверхность, образуя развитый рельеф облученных пленок.
Ключевые слова:
наноструктурированный германий, ионная имплантация, литий-ионные аккумуляторы.
Поступила в редакцию: 07.02.2020 Исправленный вариант: 16.04.2020 Принята в печать: 16.04.2020
Образец цитирования:
Н. М. Лядов, Т. П. Гаврилова, С. М. Хантимеров, В. В. Базаров, Н. М. Сулейманов, В. А. Шустов, В. И. Нуждин, И. В. Янилкин, А. И. Гумаров, И. А. Файзрахманов, Л. Р. Тагиров, “Порообразование в тонких пленках германия при имплантации ионов Ge$^{+}$”, Письма в ЖТФ, 46:14 (2020), 33–35; Tech. Phys. Lett., 46:7 (2020), 707–709
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5048 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i14/p33
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 43 | PDF полного текста: | 24 |
|