|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Покрытие наноструктурированной профилированной поверхности Si слоем SiC
А. С. Гращенкоa, А. С. Кукушкинab, А. В. Осиповa a Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Аннотация:
Разработан метод покрытия профилированной поверхности Si слоем SiC, полностью сохраняющим исходную морфологию поверхности Si. Определены условия синтеза SiC, при которых исходный профиль поверхности Si трансформируется в профиль, покрытый слоем SiC без геометрических искажений. Экспериментально доказано, что критической температурой синтеза, при которой происходит формирование данного покрытия, является температура, равная 1050$^\circ$C.
Ключевые слова:
карбид кремния, метод замещения атомов, профилированный кремний, полуполярный нитрид алюминия, полуполярный нитрид галлия, защитные покрытия.
Поступила в редакцию: 30.06.2020 Исправленный вариант: 15.07.2020 Принята в печать: 15.07.2020
Образец цитирования:
А. С. Гращенко, А. С. Кукушкин, А. В. Осипов, “Покрытие наноструктурированной профилированной поверхности Si слоем SiC”, Письма в ЖТФ, 46:20 (2020), 19–22; Tech. Phys. Lett., 46:10 (2020), 1012–1015
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4961 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i20/p19
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 45 | PDF полного текста: | 21 |
|