|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Влияние условий формирования геттера в высокоомном кремнии на характеристики PIN-фотодиодов
И. Б. Чистохин, К. Б. Фрицлер Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация:
Изучено влияние условий геттерирования в высокоомном кремнии при изготовлении PIN-фотодиодов на обратные темновые токи. Показано, что геттерирование путем использования комбинации ионного легирования фосфором и нанесения поликремниевой пленки с последующим легированием фосфором при температурах менее 900$^\circ$С обратной стороны подложки приводит к пониженным значениям обратного темнового тока и увеличению времени жизни неравновесных носителей.
Ключевые слова:
геттерирование, PIN-фотодиод, высокоомный кремний, темновые токи.
Поступила в редакцию: 06.07.2020 Исправленный вариант: 20.07.2020 Принята в печать: 23.07.2020
Образец цитирования:
И. Б. Чистохин, К. Б. Фрицлер, “Влияние условий формирования геттера в высокоомном кремнии на характеристики PIN-фотодиодов”, Письма в ЖТФ, 46:21 (2020), 11–13; Tech. Phys. Lett., 46:11 (2020), 1057–1059
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4945 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i21/p11
|
|