Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2020, том 46, выпуск 23, страницы 29–32
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.23.50345.18423 (Mi pjtf4923) 		 
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Влияние кривизны поверхности на процессы физического распыления кремния ионами Ar низкой энергии

А. А. Сычева

Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына
PDF полного текста (473 kB) Список цитирования (1)
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.23.50345.18423
Аннотация: Выполнено моделирование методом молекулярной динамики воздействия ионов Ar с энергией 200 eV на модели кремниевых наночастиц различного размера. На основании выполненных расчетов проанализированы механизмы физического распыления и продемонстрированы различия в процессе передачи энергии материалу мишени, которые определяются кривизной ее поверхности.
Ключевые слова: физическое распыление, моделирование, молекулярная динамика, механизм, кривизна поверхности.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 18-29-27001
Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант № 18-29-27001).
Поступила в редакцию: 15.06.2020
Исправленный вариант: 18.08.2020
Принята в печать: 19.08.2020
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2020, Volume 46, Issue 12, Pages 1184–1187
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785020120135
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. А. Сычева, “Влияние кривизны поверхности на процессы физического распыления кремния ионами Ar низкой энергии”, Письма в ЖТФ, 46:23 (2020), 29–32; Tech. Phys. Lett., 46:12 (2020), 1184–1187
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Syc20}
\by А.~А.~Сычева
\paper Влияние кривизны поверхности на процессы физического распыления кремния ионами Ar низкой энергии
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2020
\vol 46
\issue 23
\pages 29--32
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf4923}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2020.23.50345.18423}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=44574198}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2020
\vol 46
\issue 12
\pages 1184--1187
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785020120135}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4923
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i23/p29
    • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024