|
Применение селективного контакта MoO$_{x}$/$p$-Si для оценки деградации приповерхностной области кремния
Д. А. Кудряшовa, А. С. Гудовскихab, А. А. Максимоваb, А. И. Барановa, А. В. Уваровa, И. А. Морозовa a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова
Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ»
Аннотация:
Показана возможность оценки степени повреждения приповерхностного слоя кремния $p$-типа с помощью селективного контакта на основе MoO$_{x}$/$p$-Si. Продемонстрирована сильная чувствительность вольт-амперных характеристик к состояниям на поверхности кремния, образованным в процессе нанесения оксида кремния методом магнетронного распыления.
Ключевые слова:
кремний, селективный контакт, плазменная деградация.
Поступила в редакцию: 22.07.2020 Исправленный вариант: 16.09.2020 Принята в печать: 16.09.2020
Образец цитирования:
Д. А. Кудряшов, А. С. Гудовских, А. А. Максимова, А. И. Баранов, А. В. Уваров, И. А. Морозов, “Применение селективного контакта MoO$_{x}$/$p$-Si для оценки деградации приповерхностной области кремния”, Письма в ЖТФ, 46:24 (2020), 37–40; Tech. Phys. Lett., 46:12 (2020), 1245–1248
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4912 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v46/i24/p37
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 58 | PDF полного текста: | 15 |
|