|
Подложки с алмазным теплоотводом для эпитаксиального роста GaN
И. О. Майбородаa, И. А. Черныхa, В. С. Седовb, А. С. Алтаховb, А. А. Андреевa, Ю. В. Грищенкоa, Е. М. Колобковаa, А. К. Мартьяновb, В. И. Коновb, М. Л. Занавескинa a Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
b Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, г. Москва
Аннотация:
Изготовлены пластины кремния с теплоотводом из поликристаллического алмаза, в которых слои кремния и алмаза имели толщину 234 nm и 250 $\mu$m соответственно. Теплопроводность алмаза составила 1290 $\pm$ 190 W/(m $\cdot$ K). Методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках кремния с теплоотводом из поликристаллического алмаза выращены нитридные гетероструктуры с двумерным электронным газом. Подвижность электронов в двумерном электронном газе и его слоевое сопротивление составили 1600 cm$^{2}$/(V $\cdot$ s) и 300 $\Omega/\square$ соответственно.
Ключевые слова:
транзистор с высокой подвижностью электронов, нитридная гетероструктура, нитрид галлия, кремний, алмаз.
Поступила в редакцию: 25.11.2020 Исправленный вариант: 16.12.2020 Принята в печать: 17.12.2020
Образец цитирования:
И. О. Майборода, И. А. Черных, В. С. Седов, А. С. Алтахов, А. А. Андреев, Ю. В. Грищенко, Е. М. Колобкова, А. К. Мартьянов, В. И. Конов, М. Л. Занавескин, “Подложки с алмазным теплоотводом для эпитаксиального роста GaN”, Письма в ЖТФ, 47:7 (2021), 13–16; Tech. Phys. Lett., 47:5 (2021), 353–356
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4810 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i7/p13
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 88 | PDF полного текста: | 37 |
|