|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Получение TiN-покрытий реактивным анодным испарением титана в разряде с самонакаливаемым полым катодом
А. И. Меньшаковab, Д. Р. Емлинa a Институт электрофизики УрО РАН, г. Екатеринбург
b Уральский федеральный университет им. Б. Н. Ельцина, г. Екатеринбург
Аннотация:
Предложен способ получения TiN-покрытий путем анодного испарения титана в газовом сильноточном разряде (30 А) с самонакаливаемым полым катодом в среде Ar+N$_{2}$. Оптический спектральный анализ показывает, что в составе газоразрядной плазмы присутствует большое количество активированного титана, а доля ионов металла, поступающих из плазмы на подложку с учетом однозарядности ионов, достигает 70%. При потоке азота 5 cm$^{3}$/min получены TiN-покрытия толщиной 2 $\mu$m с твердостью до 24 GPa. Скорость осаждения на расстоянии 7 cm от источника паров составила $\sim$4 $\mu$m/h.
Ключевые слова:
нитрид титана, анодное испарение, самонакаливаемый полый катод, PVD.
Поступила в редакцию: 07.12.2020 Исправленный вариант: 07.12.2020 Принята в печать: 22.02.2021
Образец цитирования:
А. И. Меньшаков, Д. Р. Емлин, “Получение TiN-покрытий реактивным анодным испарением титана в разряде с самонакаливаемым полым катодом”, Письма в ЖТФ, 47:10 (2021), 35–37; Tech. Phys. Lett., 47:7 (2021), 511–514
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4788 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i10/p35
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 48 | PDF полного текста: | 18 |
|