Радиоактивационный контроль плотности износостойких покрытий AlN и CrN на кремнии

С помощью комбинации двух методик (неразрушающего радиоактивационного анализа на пучках протонов и оптической микроинтерферометрии) измерены соответственно массовые и линейные толщины покрытий AlN и CrN, осажденных на кремниевые подложки методом магнетронного распыления. Показано, что при линейных толщинах от 2.2 до 5.7 $\mu$m плотность покрытий близка к значениям для объемных материалов AlN (3.26 g/cm$^{3}$) и CrN (5.9 g/cm$^{3}$), а стехиометрию нитридов можно контролировать, изменяя параметры магнетронного осаждения. Методика может быть использована также для определения плотности покрытий из карбидов и оксидов металлов, которые применяются в качестве износостойких покрытий.