|
Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
С. Д. Полетаевab, А. И. Любимовc a Институт систем обработки изображений РАН - филиал ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Самара, Россия, г. Самара
b Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева
c ФГУП «НПО "Государственный институт прикладной оптики"», г. Казань
Аннотация:
Теоретически и экспериментально исследовано влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении через маску массивных подложек во фреоне-14. Показано, что для масок с покрытием подложек выше 30% происходит рост реактивной составляющей мощности на расстояниях от центра, близких к радиусу подложки. Установлено отсутствие зависимости удельной реактивной мощности от толщины и типа металла масок. Экспериментально показано, что маски с любым практически значимым коэффициентом покрытия подложки, соединенные с нижним электродом через подложкодержатель, улучшают согласование, снижая коэффициент отражения по мощности.
Ключевые слова:
дифракционный микрорельеф, реактивно-ионное травление, импеданс, подложкодержатель, нижний электрод.
Поступила в редакцию: 25.01.2021 Исправленный вариант: 12.03.2021 Принята в печать: 12.03.2021
Образец цитирования:
С. Д. Полетаев, А. И. Любимов, “Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек”, Письма в ЖТФ, 47:11 (2021), 44–47; Tech. Phys. Lett., 47:8 (2021), 569–572
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4777 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i11/p44
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 54 | PDF полного текста: | 17 |
|