|
Вертикальное упорядочение аморфных нанокластеров Ge в многослойных гетероструктурах $a$-Ge/$a$-Si:H
Г. Н. Камаевa, В. А. Володинab, Г. К. Кривякинa a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
Аннотация:
Исследована многослойная гетеронаноструктура, состоящая из трех пар слоев аморфного кремния и аморфного германия ($a$-Ge/$a$-Si:H), выращенная на подложке кремния методом низкочастотного плазмохимического осаждения при температуре 225$^\circ$C. На основе анализа спектров комбинационного рассеяния света определен фазовый состав слоев кремния и германия, который показал, что слои полностью аморфны. На изображениях, полученных с помощью просвечивающей электронной микроскопии, наблюдаются упорядоченные в вертикальном направлении аморфные нанокластеры Ge, формирование которых инициировано локальными неоднородностями нанометрового масштаба в первом слое германия, латеральные размеры которых растут от нижнего слоя к верхнему.
Ключевые слова:
германий, кремний, гетерограница, самоорганизация, нанокластер.
Поступила в редакцию: 08.02.2021 Исправленный вариант: 11.03.2021 Принята в печать: 17.03.2021
Образец цитирования:
Г. Н. Камаев, В. А. Володин, Г. К. Кривякин, “Вертикальное упорядочение аморфных нанокластеров Ge в многослойных гетероструктурах $a$-Ge/$a$-Si:H”, Письма в ЖТФ, 47:12 (2021), 13–16; Tech. Phys. Lett., 47:8 (2021), 609–612
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4756 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i12/p13
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 39 | PDF полного текста: | 12 |
|