Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2021, том 47, выпуск 23, страницы 35–39
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.23.51782.18890 (Mi pjtf4613) 		 
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки

Р. В. Селюковa, М. О. Изюмовa, В. В. Наумовa, Л. А. Мазалецкийb

a Ярославский филиал Физико-технологического института а им. К.А. Валиева РАН, Ярославль, Россия
b Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова
PDF полного текста (147 kB) Список цитирования (1)
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.23.51782.18890
Аннотация: Пленки Ti толщиной 10–40 nm, имеющие исходно смешанную текстуру (100)+(001), подвергались ионной бомбардировке в плазме Ar высокочастотного индукционного разряда при приложении к ним отрицательного напряжения смещения -30 V. Найдено, что такая обработка способствует формированию в пленках текстуры (100). Данный результат объяснен возникновением в пленке сжимающих напряжений в результате ионной бомбардировки. Чем меньше толщина пленки, тем меньшее время обработки требуется для образования текстуры (100).
Ключевые слова: текстура, ионная бомбардировка, титан, тонкие пленки.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации 0066-2019-0002
Работа выполнена в рамках государственного задания ФТИАН им. К.А. Валиева РАН Минобрнауки РФ по теме № 0066-2019-0002. ЭДС- и ЭОС-исследования выполнены с использованием оборудования ЦКП “Диагностика микро- и наноструктур” при финансовой поддержке Минобрнауки РФ.
Поступила в редакцию: 31.05.2021
Исправленный вариант: 29.08.2021
Принята в печать: 30.08.2021
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Р. В. Селюков, М. О. Изюмов, В. В. Наумов, Л. А. Мазалецкий, “Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки”, Письма в ЖТФ, 47:23 (2021), 35–39
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SelIzyNau21}
\by Р.~В.~Селюков, М.~О.~Изюмов, В.~В.~Наумов, Л.~А.~Мазалецкий
\paper Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2021
\vol 47
\issue 23
\pages 35--39
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf4613}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.23.51782.18890}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=46687317}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4613
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i23/p35
    • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:68
    PDF полного текста:41
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024