|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки
Р. В. Селюковa, М. О. Изюмовa, В. В. Наумовa, Л. А. Мазалецкийb a Ярославский филиал Физико-технологического института а им. К.А. Валиева РАН, Ярославль, Россия
b Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова
Аннотация:
Пленки Ti толщиной 10–40 nm, имеющие исходно смешанную текстуру (100)+(001), подвергались ионной бомбардировке в плазме Ar высокочастотного индукционного разряда при приложении к ним отрицательного напряжения смещения -30 V. Найдено, что такая обработка способствует формированию в пленках текстуры (100). Данный результат объяснен возникновением в пленке сжимающих напряжений в результате ионной бомбардировки. Чем меньше толщина пленки, тем меньшее время обработки требуется для образования текстуры (100).
Ключевые слова:
текстура, ионная бомбардировка, титан, тонкие пленки.
Поступила в редакцию: 31.05.2021 Исправленный вариант: 29.08.2021 Принята в печать: 30.08.2021
Образец цитирования:
Р. В. Селюков, М. О. Изюмов, В. В. Наумов, Л. А. Мазалецкий, “Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки”, Письма в ЖТФ, 47:23 (2021), 35–39
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4613 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i23/p35
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 56 | PDF полного текста: | 33 |
|