Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 12, страница 1374 (Mi phts6681)  

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Analytical drain current modeling and simulation of triple material gate-all-around heterojunction TFETs considering depletion regions

C. Usha, P. Vimala

Department of Electronics and Communication, Dayananda Sagar College of Engineering, Bangalore, Karnataka, India
Аннотация: This paper deals with electrostatic behavior of triple-material gate-all-around hetero-junction tunneling field-effect transistors (TMGAA-HJTFET) device. The model is advantageous in apprehending a comparative study with the single-material gate-all-around hetero-junction tunneling field-effect transistors (SMGAA-HJTFET) in terms of surface potential, electric field, drain current, transconductance, and threshold voltage. The surface-potential distribution in partition regions along the channel is solved by using two-dimensional Poisson’s equation. By using the drift and diffusion current, drain current is derived, and $I_{\operatorname{On}}/I_{\operatorname{Off}}$ ratio of 10$^{11}$ is gained from analytical modeling and TCAD simulation. Transconductance and threshold voltage are derived from the tunneling current. The proposed model results are validated by the ATLAS TCAD simulation tool.
Ключевые слова: drain current, surface potential, electric field, TFETs, TCAD simulation.
Финансовая поддержка Номер гранта
Government of India SR/WOS-A/ET-5/2017
This work was supported by Women Scientist Scheme-A, Department of Science and Technology, New Delhi, Government of India, under the Grant SR/WOS-A/ET-5/2017.
Поступила в редакцию: 11.05.2020
Исправленный вариант: 07.07.2020
Принята в печать: 13.08.2020
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2020, Volume 54, Issue 12, Pages 1634–1640
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782620120398
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: C. Usha, P. Vimala, “Analytical drain current modeling and simulation of triple material gate-all-around heterojunction TFETs considering depletion regions”, Физика и техника полупроводников, 54:12 (2020), 1374; Semiconductors, 54:12 (2020), 1634–1640
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{UshVim20}
\by C.~Usha, P.~Vimala
\paper Analytical drain current modeling and simulation of triple material gate-all-around heterojunction TFETs considering depletion regions
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2020
\vol 54
\issue 12
\pages 1374
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6681}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2020
\vol 54
\issue 12
\pages 1634--1640
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782620120398}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6681
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v54/i12/p1374
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024