Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 8, страница 679 (Mi phts6620)  

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Rippling effect on the electrical properties of boron nitride monolayer: density functional theory

J. A. Tallaa, E. A. Almahmoudb, H. Abu-Farsakhc

a Department of Physics, Al al-Bayt University, Al-Mafraq-130040, Jordan
b Department of Physical Sciences, Jordan University of Science and Technology, P.O. Box 3030, Irbid 22110, Jordan
c Department of General Sciences, Prince Sultan University, Riyadh 11586, Saudi Arabia
Аннотация: We performed a systematic study on mechanical properties of boron nitride monolayer. We found that applying mechanical deformation on boron nitride monolayer induced pattern of ripples. The induced rippling in the boron nitride monolayer created different bending levels in the forbidden zone, which in turn significantly tune the electronic properties of the monolayer. We also found that the band gap of boron nitride monolayer decreased dramatically with increasing the bending angles. In other words, the combined effect of applying bending and uniaxial stress on the boron nitride monolayer significantly decreases the band gap. We believe that the ability to precisely control sharp local curvatures of boron nitride sheet brings forward opportunities for strain-assisted modification of chemical reactivity and local electronic structure in the boron nitride monolayer. Such modification may be of great interest to band gap engineered devices.
Ключевые слова: boron nitride monolayer, uniaxial stress, rippling, electrical properties, density functional theory.
Поступила в редакцию: 20.06.2020
Исправленный вариант: 04.09.2020
Принята в печать: 04.03.2021
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2021, Volume 55, Issue 8, Pages 696–703
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782621080182
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: J. A. Talla, E. A. Almahmoud, H. Abu-Farsakh, “Rippling effect on the electrical properties of boron nitride monolayer: density functional theory”, Физика и техника полупроводников, 55:8 (2021), 679; Semiconductors, 55:8 (2021), 696–703
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{TalAlmAbu21}
\by J.~A.~Talla, E.~A.~Almahmoud, H.~Abu-Farsakh
\paper Rippling effect on the electrical properties of boron nitride monolayer: density functional theory
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2021
\vol 55
\issue 8
\pages 679
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6620}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2021
\vol 55
\issue 8
\pages 696--703
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782621080182}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6620
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i8/p679
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:51
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024