Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 4, страница 388 (Mi phts6603)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Current–voltage, capacitance–voltage–temperature, and dlts studies of Ni|6H-SiC Schottky diode

A. Rabehiab, B. Akkala, M. Amrania, S. Tizia, Z. Benamaraa, H. Helala, A. Douarab, B. Nailb, A. Zianea

a Laboratoire de Micro-électronique Appliquée.Université Djillali Liabès Sidi Bel Abbès, BP 89, 22000, Sidi Bel Abbés, Algeria
b Institute of Science and Technology, Tissemsilt University Center, 38000 Tissemsilt, Algeria
Аннотация: In this paper, we give a systematical description of Ni|6H-SiC Schottky diode by current–voltage $I(V)$ characteristics at room temperature and capacitance–voltage $C(V)$ characteristics at various frequencies (10–800 kHz) and various temperatures (77–350 K). The $I(V)$ characteristics show a double-barrier phenomenon, which gives a low and high barrier height ($\phi_{bn}^{\operatorname{L}}$ = 0.91 eV, $\phi_{bn}^{\operatorname{H}}$ = 1.55 eV), with a difference of $\Delta\phi_{bn}$ = 0.64 eV. Also, low ideality factor $n^{\operatorname{L}}$ = 1.94 and high ideality factor $n^{\operatorname{H}}$ = 1.22 are obtained. The $C$$V$$T$ measurements show that the barrier height $\phi_{bn}$ decreases with decreasing of temperature and gives a temperature coefficient $\alpha$ = 1.0 $\times$ 10$^{-3}$ eV/K and $\phi_{bn}$ ($T$ = 0 K) = 1.32 eV. Deep-level transient spectroscopy (DLTS) has been used to investigate deep levels in the Ni|6H-SiC Schottky diode. The traps signatures such as activation energies $E_\alpha$ = 0.50 $\pm$ 0.07 eV, capture cross-section $\sigma$ = 1.8 $\times$ 10$^{-20}$ cm$^2$, and defect concentration $N_T$ = 6.2 $\times$ 10$^{13}$ cm$^{-3}$ were calculated from Arrhenius plots.
Ключевые слова: silicon carbide, Schottky diodes, I–V, $C$$V$$T$, deep-level transient spectroscopy (DLTS).
Поступила в редакцию: 12.10.2020
Исправленный вариант: 12.10.2020
Принята в печать: 10.12.2020
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2021, Volume 55, Issue 4, Pages 446–454
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782621040138
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: A. Rabehi, B. Akkal, M. Amrani, S. Tizi, Z. Benamara, H. Helal, A. Douara, B. Nail, A. Ziane, “Current–voltage, capacitance–voltage–temperature, and dlts studies of Ni|6H-SiC Schottky diode”, Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 388; Semiconductors, 55:4 (2021), 446–454
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{RabAkkAmr21}
\by A.~Rabehi, B.~Akkal, M.~Amrani, S.~Tizi, Z.~Benamara, H.~Helal, A.~Douara, B.~Nail, A.~Ziane
\paper Current--voltage, capacitance--voltage--temperature, and dlts studies of Ni|6H-SiC Schottky diode
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2021
\vol 55
\issue 4
\pages 388
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6603}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2021
\vol 55
\issue 4
\pages 446--454
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782621040138}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6603
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v55/i4/p388
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:42
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024