|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 1, страницы 138–142
(Mi phts6575)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Формирование структур графит/SiC методом термического разложения карбида кремния
М. Г. Мынбаеваab, А. А. Лаврентьевa, К. Д. Мынбаевba a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
Аннотация:
Изучены условия синтеза углеродных покрытий на поверхности пластин карбида кремния (SiC), получаемых методом термического разложения. Исследовано влияние температуры и состава атмосферы отжига образцов на характер структурных свойств получаемых слоев. В результате определены условия, при которых могут быть получены сплошные пленки графита как с поликристаллической, так и с монокристаллической структурой.
Поступила в редакцию: 06.05.2015 Принята в печать: 18.05.2015
Образец цитирования:
М. Г. Мынбаева, А. А. Лаврентьев, К. Д. Мынбаев, “Формирование структур графит/SiC методом термического разложения карбида кремния”, Физика и техника полупроводников, 50:1 (2016), 138–142; Semiconductors, 50:1 (2016), 138–142
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6575 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i1/p138
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 80 | PDF полного текста: | 41 |
|