|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 1, страницы 83–88
(Mi phts6566)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Оценка стойкости к диффузионной деструкции наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур методом ИК-спектральной эллипсометрии
М. О. Макеев, Ю. А. Иванов, С. А. Мешков Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана
Аннотация:
Разработана методика оценки качества наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур с точки зрения их стойкости к диффузионной деструкции. Методом ИК-спектральной эллипсометрии выявлено диффузионное размытие слоев AlAs/GaAs гетероструктуры и определены коэффициенты диффузии Al и Si в GaAs.
Поступила в редакцию: 17.03.2015 Принята в печать: 03.04.2015
Образец цитирования:
М. О. Макеев, Ю. А. Иванов, С. А. Мешков, “Оценка стойкости к диффузионной деструкции наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур методом ИК-спектральной эллипсометрии”, Физика и техника полупроводников, 50:1 (2016), 83–88; Semiconductors, 50:1 (2016), 83–88
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6566 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i1/p83
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 34 | PDF полного текста: | 17 |
|