Получение, структура и свойства эпитаксиальных пленок (GaAs)$_{1-x-y}$(Ge$_{2}$)$_{x}$(ZnSe)$_{y}$ на основе GaAs

Показана возможность выращивания твердого раствора (GaAs)$_{1-x-y}$(Ge$_{2}$)$_{x}$(ZnSe)$_{y}$ на подложках GaAs методом жидкофазной эпитаксии из оловянного раствора-расплава. Рентгенодифракционное исследование показало, что полученная пленка является монокристаллической с ориентацией (100) и имеет сфалеритную структуру. Параметр кристаллической решетки пленки составлял $a_{f}$ = 0.56697 нм. Особенности спектральной зависимости фоточувствительности обусловлены образованием различных комплексов заряженных компонентов. Установлено, что вольт-амперная характеристика таких структур при малых напряжениях (до 0.4 В) описывается экспоненциальной зависимостью $I=I_{0}\exp(qV/ckT)$, а при больших ($V>$ 0.5 В) – степенной зависимостью типа $J\sim V^{\alpha}$, где показатель степени $\alpha$ меняется с ростом напряжения. Результаты объясняются в рамках теории дрейфового механизма переноса тока, учитывающей возможность обмена свободными носителями внутри рекомбинационного комплекса.