Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 2, страницы 264–268 (Mi phts6550)  

Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Особенности роста InN методом МПЭ с плазменной активацией азота при различных соотношениях потоков элементов III и V групп

Д. Н. Лобановab, А. В. Новиковab, Б. А. Андреевab, П. А. Бушуйкинa, П. А. Юнинa, Е. В. Скороходовa, Л. В. Красильниковаba

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Аннотация: Представлены результаты исследований влияния соотношения потоков элементов III и V групп на структурные и оптические свойства формируемой методом МПЭ ПА пленки InN. Было показано, что при соотношении потоков III/V $<$ 0.6 слой InN состоит из отдельно стоящих наноколонн. В диапазоне соотношений 0.6 $<$ III/V $<$ 0.9 рост InN становится двумерным, однако слой InN обладает нанопористой структурой. При переходе к металлобогащенным условиям роста (III/V $\sim$ 1.1) слой InN становится сплошным. Переход от трехмерного роста к двумерному сопровождается увеличением плотности прорастающих дислокаций. Это приводит к снижению интенсивности сигнала фотолюминесценции InN при комнатной температуре. Концентрация электронов в слоях InN составила $\sim$5 $\cdot$10$^{18}$ см$^{-3}$, что приводит к сдвигу максимума сигнала ФЛ в область длин волн 1.73–1.8 мкм и сдвигу края поглощения в область $\sim$1.65 мкм.
Поступила в редакцию: 28.05.2015
Принята в печать: 05.06.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2016, Volume 50, Issue 2, Pages 261–265
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782616020159
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Д. Н. Лобанов, А. В. Новиков, Б. А. Андреев, П. А. Бушуйкин, П. А. Юнин, Е. В. Скороходов, Л. В. Красильникова, “Особенности роста InN методом МПЭ с плазменной активацией азота при различных соотношениях потоков элементов III и V групп”, Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016), 264–268; Semiconductors, 50:2 (2016), 261–265
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LobNovAnd16}
\by Д.~Н.~Лобанов, А.~В.~Новиков, Б.~А.~Андреев, П.~А.~Бушуйкин, П.~А.~Юнин, Е.~В.~Скороходов, Л.~В.~Красильникова
\paper Особенности роста InN методом МПЭ с плазменной активацией азота при различных соотношениях потоков элементов III и V групп
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2016
\vol 50
\issue 2
\pages 264--268
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6550}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=25668128}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2016
\vol 50
\issue 2
\pages 261--265
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782616020159}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6550
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i2/p264
  • Эта публикация цитируется в следующих 6 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:39
    PDF полного текста:18
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024