|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 5, страницы 711–716
(Mi phts6478)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Лазерное отделение пленок $n$-GaN от подложек, основанное на эффекте сильного поглощения ИК излучения свободными носителями заряда в $n^{+}$-GaN подложках
М. В. Виркоa, В. С. Коготковa, А. А. Леонидовa, В. В. Вороненковb, Ю. Т. Ребанеb, А. С. Зубриловb, Р. И. Горбуновb, Ф. Е. Латышевb, Н. И. Бочкареваb, Ю. С. Леликовb, Д. В. Тархинb, А. Н. Смирновb, В. Ю. Давыдовb, Ю. Г. Шретерb a Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Рассмотрены физические и технологические основы метода отделения слабо и умеренно легированных пленок $n$-GaN от сильно легированных подложек $n^{+}$-GaN. В основе метода отделения лежит эффект поглощения лазерного ИК излучения на свободных носителях заряда, которое значительно сильнее в $n^{+}$-GaN пленках.
Поступила в редакцию: 22.10.2015 Принята в печать: 26.10.2015
Образец цитирования:
М. В. Вирко, В. С. Коготков, А. А. Леонидов, В. В. Вороненков, Ю. Т. Ребане, А. С. Зубрилов, Р. И. Горбунов, Ф. Е. Латышев, Н. И. Бочкарева, Ю. С. Леликов, Д. В. Тархин, А. Н. Смирнов, В. Ю. Давыдов, Ю. Г. Шретер, “Лазерное отделение пленок $n$-GaN от подложек, основанное на эффекте сильного поглощения ИК излучения свободными носителями заряда в $n^{+}$-GaN подложках”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 711–716; Semiconductors, 50:5 (2016), 699–704
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6478 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i5/p711
|
|