|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 5, страницы 679–682
(Mi phts6472)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Скорость захвата электронов в зависимости от глубины квантовой ямы в полупроводниковых лазерах
З. Н. Соколоваa, К. В. Бахваловa, А. В. Лютецкийa, Н. А. Пихтинa, И. С. Тарасовa, Л. В. Асрянb a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Virginia Polytechnic Institute and State University Blacksburg, USA
Аннотация:
Методом МОС-гидридной эпитаксии выращены три лазерные структуры с одиночной напряженной квантовой ямой из InGaAs и волноводной областью из GaAs или Al$_{0.1}$Ga$_{0.9}$As. В этих структурах, имеющих различную глубину квантовой ямы, были измерены плотность порогового тока и внутренняя дифференциальная квантовая эффективность. С использованием экспериментальных значений этих величин была вычислена скорость захвата электронов в квантовую яму в каждой из трех структур. Получено, что скорость захвата в глубокие ямы существенно меньше, чем в мелкие.
Поступила в редакцию: 03.11.2015 Принята в печать: 13.11.2015
Образец цитирования:
З. Н. Соколова, К. В. Бахвалов, А. В. Лютецкий, Н. А. Пихтин, И. С. Тарасов, Л. В. Асрян, “Скорость захвата электронов в зависимости от глубины квантовой ямы в полупроводниковых лазерах”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 679–682; Semiconductors, 50:5 (2016), 667–670
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6472 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i5/p679
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 53 | PDF полного текста: | 19 |
|