|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 5, страницы 668–673
(Mi phts6470)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Физика полупроводниковых приборов
Изотермические вольт-амперные характеристики высоковольных 4$H$-SiC JBS-диодов Шоттки
М. Е. Левинштейнa, П. А. Ивановa, Q. J. Zhangb, J. W. Palmourb a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Cree Inc., USA
Аннотация:
Прямые импульсные изотермические вольт-амперные характеристики 4$H$-SiC JBS с номинальным блокирующим напряжением 1700 В измерены в температурном диапазоне от -80$^\circ$C до + 90$^\circ$C (193–363 K) вплоть до значений плотностей тока $j$ $\sim$ 5600 А/см$^{2}$ при - 80$^\circ$C и 3000 А/см$^{2}$ при + 90$^\circ$C. При этих измерениях перегрев структуры по отношению к температуре окружающей среды $\Delta T$ не превышал нескольких градусов. При бо́льших значениях плотности тока наблюдается эффективная инжекция неосновных носителей (дырок) в базу структуры, сопровождающаяся появлением $S$-образного дифференциального сопротивления. Измерены также импульсные изотермические вольт-амперные характеристики при температуре 77 K.
Поступила в редакцию: 20.10.2015 Принята в печать: 26.10.2015
Образец цитирования:
М. Е. Левинштейн, П. А. Иванов, Q. J. Zhang, J. W. Palmour, “Изотермические вольт-амперные характеристики высоковольных 4$H$-SiC JBS-диодов Шоттки”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 668–673; Semiconductors, 50:5 (2016), 656–661
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6470 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i5/p668
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 26 | PDF полного текста: | 13 |
|