Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 5, страницы 668–673 (Mi phts6470)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Физика полупроводниковых приборов

Изотермические вольт-амперные характеристики высоковольных 4$H$-SiC JBS-диодов Шоттки

М. Е. Левинштейнa, П. А. Ивановa, Q. J. Zhangb, J. W. Palmourb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Cree Inc., USA
Аннотация: Прямые импульсные изотермические вольт-амперные характеристики 4$H$-SiC JBS с номинальным блокирующим напряжением 1700 В измерены в температурном диапазоне от -80$^\circ$C до + 90$^\circ$C (193–363 K) вплоть до значений плотностей тока $j$ $\sim$ 5600 А/см$^{2}$ при - 80$^\circ$C и 3000 А/см$^{2}$ при + 90$^\circ$C. При этих измерениях перегрев структуры по отношению к температуре окружающей среды $\Delta T$ не превышал нескольких градусов. При бо́льших значениях плотности тока наблюдается эффективная инжекция неосновных носителей (дырок) в базу структуры, сопровождающаяся появлением $S$-образного дифференциального сопротивления. Измерены также импульсные изотермические вольт-амперные характеристики при температуре 77 K.
Поступила в редакцию: 20.10.2015
Принята в печать: 26.10.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2016, Volume 50, Issue 5, Pages 656–661
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782616050158
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. Е. Левинштейн, П. А. Иванов, Q. J. Zhang, J. W. Palmour, “Изотермические вольт-амперные характеристики высоковольных 4$H$-SiC JBS-диодов Шоттки”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 668–673; Semiconductors, 50:5 (2016), 656–661
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LevIvaZha16}
\by М.~Е.~Левинштейн, П.~А.~Иванов, Q.~J.~Zhang, J.~W.~Palmour
\paper Изотермические вольт-амперные характеристики высоковольных 4$H$-SiC JBS-диодов Шоттки
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2016
\vol 50
\issue 5
\pages 668--673
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6470}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=27368892}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2016
\vol 50
\issue 5
\pages 656--661
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782616050158}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6470
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i5/p668
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:26
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024