Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 5, страницы 643–649 (Mi phts6466)  

Эта публикация цитируется в 15 научных статьях (всего в 15 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Биосенсорные свойства нанопроволочных транзисторов с защитным слоем диэлектрика Al$_{2}$O$_{3}$, нанесенным методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения

В. П. Поповa, М. А. Ильницкийa, Э. Д. Жанаевa, А. В. Мяконькихb, К. В. Руденкоb, А. В. Глуховc

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Физико-технологический институт РАН, г. Москва
c Новосибирский завод полупроводниковых приборов Восток, г. Новосибирск
Аннотация: Изучены свойства защитных диэлектрических слоев оксида алюминия Al$_{2}$O$_{3}$, нанесенных на уже изготовленные кремниевые нанопроволочные транзисторные биочипы методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения (PEALD) перед корпусированием, в зависимости от режимов нанесения и отжига. Покрытие естественного окисла кремния слоем Al$_{2}$O$_{3}$ нанометровой толщины незначительно уменьшает фемтомольную чувствительность биосенсоров, но обеспечивает их стабильность в биожидкостях. В деионизованной воде транзисторы с отожженным оксидом алюминия закрываются из-за захвата на поверхностные состояния отрицательного заряда величиной $<$ (1–10) $\cdot$ 10$^{11}$ см$^{-2}$. Подача положительного потенциала на подложку ($V_{\mathrm{sub}}$ $>$ 25 В) позволяет устранять отрицательный заряд и проводить многократные измерения в жидкости по крайней мере в течение полугода.
Поступила в редакцию: 12.08.2015
Принята в печать: 08.09.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2016, Volume 50, Issue 5, Pages 632–638
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782616050195
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. П. Попов, М. А. Ильницкий, Э. Д. Жанаев, А. В. Мяконьких, К. В. Руденко, А. В. Глухов, “Биосенсорные свойства нанопроволочных транзисторов с защитным слоем диэлектрика Al$_{2}$O$_{3}$, нанесенным методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 643–649; Semiconductors, 50:5 (2016), 632–638
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{PopIlnZha16}
\by В.~П.~Попов, М.~А.~Ильницкий, Э.~Д.~Жанаев, А.~В.~Мяконьких, К.~В.~Руденко, А.~В.~Глухов
\paper Биосенсорные свойства нанопроволочных транзисторов с защитным слоем диэлектрика Al$_{2}$O$_{3}$, нанесенным методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2016
\vol 50
\issue 5
\pages 643--649
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6466}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=27368888}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2016
\vol 50
\issue 5
\pages 632--638
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782616050195}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6466
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i5/p643
  • Эта публикация цитируется в следующих 15 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:36
    PDF полного текста:10
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024