|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 7, страницы 993–996
(Mi phts6426)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Квантовые точки в системе InSb/GaSb, выращенные методом жидкофазной эпитаксии
Я. А. Пархоменко, П. А. Дементьев, К. Д. Моисеев Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Мы сообщаем о первых результатах по выращиванию квантовых точек в системе InSb/GaSb методом жидкофазной эпитаксии и исследованию их структурных характеристик методом атомно-силовой микроскопии. Показано, что поверхностная плотность, форма и размеры наноостровков зависят от температуры наращивания и химии поверхности матрицы. Получены массивы квантовых точек InSb на подложках GaSb (001) в интервале температур $T$ = 450–465$^\circ$C, со средними размерами: высота $h$ = 3 нм, продольный размер $D$ = 30 нм и поверхностная плотность 3 $\cdot$ 10$^{9}$ см$^{-2}$.
Поступила в редакцию: 29.12.2015 Принята в печать: 18.01.2016
Образец цитирования:
Я. А. Пархоменко, П. А. Дементьев, К. Д. Моисеев, “Квантовые точки в системе InSb/GaSb, выращенные методом жидкофазной эпитаксии”, Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 993–996; Semiconductors, 50:7 (2016), 976–979
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6426 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i7/p993
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 27 | PDF полного текста: | 9 |
|