Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 7, страницы 979–986 (Mi phts6424)  

Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Электрохимическое литирование кремния с разной кристаллографической ориентацией

Е. В. Астрова, А. М. Румянцев, Г. В. Ли, А. В. Нащекин, Д. Ю. Казанцев, Б. Я. Бер, В. В. Жданов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Для изучения анизотропии внедрения лития в кремниевые аноды литий-ионных аккумуляторов использовались микроструктуры в виде сетки с вертикальными стенками толщиной 0.5 мкм и пластины монокристаллического кремния, имеющие разную ориентацию. Электрохимическое литирование проводилось при комнатной температуре в гальваностатическом режиме. Исследовались зарядные кривые микроструктурных и плоских кремниевых анодов. С помощью вторичной ионной масс-спектрометрии определялось распределение внедренных атомов Li по глубине пластины. Для анализа экспериментальных данных использовалась двухфазная модель, согласно которой процесс литирования лимитируется скоростью продвижения фронта между аморфным сплавом с высоким содержанием Li и кристаллической кремниевой подложкой. Определено соотношение между скоростями внедрения лития в разные кристаллографические плоскости: (110), (111) и (100) $V_{110}:V_{111}:V_{100}$ = 3.1:1.1:1.0. Продемонстрировано, что микроструктурные аноды со стенками (110) имеют наиболее высокий циклический ресурс и при скорости заряда/разряда 0.36 С выдерживают $\sim$600 циклов.
Поступила в редакцию: 09.12.2015
Принята в печать: 17.12.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2016, Volume 50, Issue 7, Pages 963–969
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782616070022
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Е. В. Астрова, А. М. Румянцев, Г. В. Ли, А. В. Нащекин, Д. Ю. Казанцев, Б. Я. Бер, В. В. Жданов, “Электрохимическое литирование кремния с разной кристаллографической ориентацией”, Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 979–986; Semiconductors, 50:7 (2016), 963–969
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{AstRumLi16}
\by Е.~В.~Астрова, А.~М.~Румянцев, Г.~В.~Ли, А.~В.~Нащекин, Д.~Ю.~Казанцев, Б.~Я.~Бер, В.~В.~Жданов
\paper Электрохимическое литирование кремния с разной кристаллографической ориентацией
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2016
\vol 50
\issue 7
\pages 979--986
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6424}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=27368947}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2016
\vol 50
\issue 7
\pages 963--969
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782616070022}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6424
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i7/p979
  • Эта публикация цитируется в следующих 6 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:52
    PDF полного текста:22
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024