|
Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 9, страницы 1178–1184
(Mi phts6358)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Связь структурно-фазовых изменений в пленках оксида титана с электрическими и фотоэлектрическими характеристиками структур TiO$_{2}$–Si
В. М. Калыгина, И. М. Егорова, В. А. Новиков, И. А. Прудаев, О. П. Толбанов Национальный исследовательский Томский государственный университет
Аннотация:
Исследовано влияние термического отжига в аргоне и воздействие кислородной плазмы на вольт-амперные характеристики и фотоотклик структур TiO$_{2}$–Si. Пленки оксида титана получали ВЧ магнетронным напылением на подложках $n$-Si. Наблюдаемые особенности поведения электрических и фотоэлектрических характеристик образцов после отжига и обработки в кислородной плазме связаны с изменением фазового состава оксидной пленки за счет появления кристаллитов анатаза или рутила в зависимости от условий обработки.
Поступила в редакцию: 16.02.2016 Принята в печать: 24.02.2016
Образец цитирования:
В. М. Калыгина, И. М. Егорова, В. А. Новиков, И. А. Прудаев, О. П. Толбанов, “Связь структурно-фазовых изменений в пленках оксида титана с электрическими и фотоэлектрическими характеристиками структур TiO$_{2}$–Si”, Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016), 1178–1184; Semiconductors, 50:9 (2016), 1156–1162
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6358 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i9/p1178
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 28 | PDF полного текста: | 10 |
|