Связь структурно-фазовых изменений в пленках оксида титана с электрическими и фотоэлектрическими характеристиками структур TiO$_{2}$–Si

Исследовано влияние термического отжига в аргоне и воздействие кислородной плазмы на вольт-амперные характеристики и фотоотклик структур TiO$_{2}$–Si. Пленки оксида титана получали ВЧ магнетронным напылением на подложках $n$-Si. Наблюдаемые особенности поведения электрических и фотоэлектрических характеристик образцов после отжига и обработки в кислородной плазме связаны с изменением фазового состава оксидной пленки за счет появления кристаллитов анатаза или рутила в зависимости от условий обработки.