Интенсивность излучения в УФ- и ИК-областях спектра в пленках, наностержнях, объемных монокристаллах ZnO, легированных Er и дополнительно введенными примесями

Для ZnO пленок, наностержней, монокристаллов, легированных Er$^{+}$, показано, что влияние дополнительно введенных примесей в катионную, анионную подрешетки, реализация интенсивного излучения полосы с $\lambda_{\operatorname{max}}$ = 1535 нм определяется концентрацией и локальным окружением иона. Легирование пленок, монокристаллов с помощью метода диффузии Er$^{+}$ приводит к излучению в ИК-области спектра с малой интенсивностью вследствие недостаточной концентрации примесного иона. Увеличение интенсивности излучения данной полосы может быть достигнуто введением дополнительных примесей Ag, Au, N$^{+}$ в пленки ZnO. Интенсивность излучения в УФ-области для пленок, монокристаллов, легированных Er, с $\lambda_{\operatorname{max}}$ = (368–372) нм такая же, как для нелегированных пленок.
В наностержнях ZnO, легированных только Er или дополнительно введенными примесями Al, Ga, имеется полоса излучения в ИК-области (с $\lambda_{\operatorname{max}}$ = 1535 нм), интенсивность которой уменьшается при введении ко-допантов. Легирование наностержней в процессе роста (930 $<T<$ 960$^\circ$C) газовой примесью N$^{+}$, затем Er$^{+}$ методом диффузии не приводит к существенному увеличению интенсивности излучения в ИК-области по сравнению с интенcивностью излучения данной полосы для нелегированных N$^{+}$ наноcтержней. Для наностержней, легированных Er, в спектрах ФЛ которых в ИК-области имеется интенсивная полоса излучения с $\lambda_{\operatorname{max}}$ = 1535 нм, практически отсутствует излучение в УФ-области с $\lambda_{\operatorname{max}}$ = 372 нм.