Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 12, страницы 1599–1604 (Mi phts6277)  

Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)

XX Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 14-18 марта 2016 г.

Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов

Е. А. Тарасоваa, Е. С. Оболенскаяa, A. B. Ханановаa, С. В. Оболенскийa, В. Е. Земляковb, В. И. Егоркинb, А. В. Неженцевa, А. В. Сахаровc, А. Ф. Цацульниковc, В. В. Лундинc, Е. Е. Заваринc, Г. В. Медведевd

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Национальный исследовательский университет "МИЭТ"
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d ОАО Научно-производственное предприятие "Салют", Нижний Новгород, Россия
Аннотация: Проведены исследования чувствительности параметров классических $n^{+}/n^{-}$ GaAs и AlGaN/GaN структур с двумерным электронным газом (НЕМТ) и полевых транзисторов на их основе к $\gamma$-нейтронному воздействию. Определены уровни их радиационной стойкости. Развит метод экспериментального исследования структур на основе дифференциального анализа вольт-фарадных характеристик, позволяющий определять слои структуры, в которых накапливаются радиационные дефекты. Впервые предложена методика, позволяющая учесть изменение площади обкладок измеряемой емкости барьерного контакта, связанной с возникновением кластеров радиационных дефектов, формирующих диэлектрические включения в слое двумерного электронного газа.
Поступила в редакцию: 27.04.2016
Принята в печать: 10.05.2016
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2016, Volume 50, Issue 12, Pages 1574–1578
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782616120216
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Е. А. Тарасова, Е. С. Оболенская, A. B. Хананова, С. В. Оболенский, В. Е. Земляков, В. И. Егоркин, А. В. Неженцев, А. В. Сахаров, А. Ф. Цацульников, В. В. Лундин, Е. Е. Заварин, Г. В. Медведев, “Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов”, Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1599–1604; Semiconductors, 50:12 (2016), 1574–1578
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{TarOboHan16}
\by Е.~А.~Тарасова, Е.~С.~Оболенская, A.~B.~Хананова, С.~В.~Оболенский, В.~Е.~Земляков, В.~И.~Егоркин, А.~В.~Неженцев, А.~В.~Сахаров, А.~Ф.~Цацульников, В.~В.~Лундин, Е.~Е.~Заварин, Г.~В.~Медведев
\paper Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2016
\vol 50
\issue 12
\pages 1599--1604
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6277}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=27369057}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2016
\vol 50
\issue 12
\pages 1574--1578
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782616120216}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6277
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v50/i12/p1599
  • Эта публикация цитируется в следующих 5 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:64
    PDF полного текста:39
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024