Формирование и свойства захороненного изолирующего слоя двуокиси кремния в двухслойных структурах “пористый кремний-на-изоляторе”

Изучен процесс окисления мезопористого кремния в двухслойной структуре “макропористый кремний–мезопористый кремний”. Методами электронной микроскопии, эллипсометрии, электрофизическими измерениями исследована морфология и диэлектрические свойства получаемого слоя захороненного диэлектрика. Определено наличие специфического вида дефектов “шипов”, возникающих при окислении стенок макропор в макропористом кремнии, границ пересечения фронтов окисления мезопористого кремния. Установлено, что при исходной пористости мезопористого кремния 60% и трехстадийном термическом окислении формируются захороненные слои двуокиси кремния с напряженностью электрического поля пробоя $E_{\operatorname{br}}\sim$ 10$^{4}$–10$^{5}$ В/cм. Показана перспективность применения многослойных структур “пористый кремний-на-изоляторе” в интегрированных химических микро- и наносенсорах.