Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 1, страницы 5–7
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2017.01.43986.8313
(Mi phts6248)
 

Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии

В. Б. Шуман, А. А. Лаврентьев, Ю. А. Астров, А. Н. Лодыгин, Л. М. Порцель

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Исследовалась диффузия примеси магния в пластины монокристаллического бездислокационного дырочного кремния в диапазоне температур $T$ = 600–800$^\circ$C. Источником диффузии служил слой, имплантированный магнием с энергией ионов 150 кэВ при дозах 5 $\cdot$10$^{14}$ и 2 $\cdot$ 10$^{15}$ см$^{-2}$. Коэффициент диффузии межузельных донорных центров магния $D_{i}$ при некоторой заданной $T$ определялся путем измерения глубины $p$$n$-перехода, который формировался в образцах, прошедших термообработку в течение времени $t$. В результате исследований впервые определена зависимость $D_{i}(T)$. Данные свидетельствуют, что диффузия осуществляется преимущественно по межузельному механизму.
Поступила в редакцию: 10.05.2016
Принята в печать: 18.05.2016
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2017, Volume 51, Issue 1, Pages 1–3
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782617010237
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. Б. Шуман, А. А. Лаврентьев, Ю. А. Астров, А. Н. Лодыгин, Л. М. Порцель, “Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии”, Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017), 5–7; Semiconductors, 51:1 (2017), 1–3
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ShuLavAst17}
\by В.~Б.~Шуман, А.~А.~Лаврентьев, Ю.~А.~Астров, А.~Н.~Лодыгин, Л.~М.~Порцель
\paper Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2017
\vol 51
\issue 1
\pages 5--7
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6248}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2017.01.43986.8313}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=28969396}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2017
\vol 51
\issue 1
\pages 1--3
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782617010237}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6248
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i1/p5
  • Эта публикация цитируется в следующих 13 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:43
    PDF полного текста:9
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024