|
Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)
Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)
Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии
В. Б. Шуман, А. А. Лаврентьев, Ю. А. Астров, А. Н. Лодыгин, Л. М. Порцель Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Исследовалась диффузия примеси магния в пластины монокристаллического бездислокационного дырочного кремния в диапазоне температур $T$ = 600–800$^\circ$C. Источником диффузии служил слой, имплантированный магнием с энергией ионов 150 кэВ при дозах 5 $\cdot$10$^{14}$ и 2 $\cdot$ 10$^{15}$ см$^{-2}$. Коэффициент диффузии межузельных донорных центров магния $D_{i}$ при некоторой заданной $T$ определялся путем измерения глубины $p$–$n$-перехода, который формировался в образцах, прошедших термообработку в течение времени $t$. В результате исследований впервые определена зависимость $D_{i}(T)$. Данные свидетельствуют, что диффузия осуществляется преимущественно по межузельному механизму.
Поступила в редакцию: 10.05.2016 Принята в печать: 18.05.2016
Образец цитирования:
В. Б. Шуман, А. А. Лаврентьев, Ю. А. Астров, А. Н. Лодыгин, Л. М. Порцель, “Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии”, Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017), 5–7; Semiconductors, 51:1 (2017), 1–3
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6248 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i1/p5
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 43 | PDF полного текста: | 9 |
|