|
Физика полупроводниковых приборов
Особенности вольт-фарадных характеристик МДП-структуры Cu–SiO$_{2}$–$p$-InSb
Р. А. Алиевa, Г. М. Гаджиевa, М. М. Гаджиалиевa, А. М. Исмаиловab, З. Ш. Пирмагомедовa a Институт физики им. Х. И. Амирханова ДНЦ РАН, Махачкала, Россия
b Дагестанский государственный университет, г. Махачкала
Аннотация:
Измерены вольт-фарадные характеристики и проводимость МДП-структур на основе InSb при разных частотах измерительного сигнала с целью изучения влияния условий технологического синтеза на емкостные свойства данных структур. Обсуждается влияние положительного, встроенного в диэлектрик, заряда на измеренные характеристики образца, которое проявляется в виде резкого “переключения” емкости при смене полярности слабополевого внешнего воздействия ($E<$ 10$^{6}$ В/см).
Поступила в редакцию: 25.02.2016 Принята в печать: 25.05.2016
Образец цитирования:
Р. А. Алиев, Г. М. Гаджиев, М. М. Гаджиалиев, А. М. Исмаилов, З. Ш. Пирмагомедов, “Особенности вольт-фарадных характеристик МДП-структуры Cu–SiO$_{2}$–$p$-InSb”, Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 383–385; Semiconductors, 51:3 (2017), 367–369
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6214 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i3/p383
|
|