Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 3, страницы 317–321
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2017.03.44200.8267
(Mi phts6202)
 

Эта публикация цитируется в 8 научных статьях (всего в 8 статьях)

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Влияние имплантации H$^{+}$ на оптические свойства кристаллов полуизолирующего арсенида галлия в ИК-области спектра

Н. И. Клюйab, В. Б. Лозинскийab, А. И. Липтугаb, В. Н. Дикушаb, А. П. Оксаничc, М. Г. Когдасьc, А. Л. Перехрестc, С. Э. Притчинc

a Институт физики, Цзилинский университет, Чанчунь, КНР
b Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, г. Киев
c Кременчугский национальный университет им. Михаила Остроградского, Кременчуг, Украина
Аннотация: Исследованы оптические свойства кристаллов полуизолирующего арсенида галлия (АГЧП), подвергнутого мультиэнергетической имплантации ионов водорода и обработке в высокочастотном электромагнитном поле, в инфракрасной области спектра. Установлено, что такая комбинированная обработка позволяет существенно повысить пропускание кристалла АГЧП до величин, характерных для кристаллов хорошего оптического качества. На основе анализа результатов исследования пропускания и отражения АГЧП в инфракрасной области спектра, спектров комбинационного рассеяния света, морфологии поверхности методом атомно-силовой микроскопии предложена физическая модель, объясняющая наблюдаемые эффекты. Модель учитывает взаимодействие радиационных дефектов с исходными дефектами структуры АГЧП, а также эффект компенсации дефектных центров водородом в процессе высокочастотной обработки.
Поступила в редакцию: 12.04.2016
Принята в печать: 20.04.2016
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2017, Volume 51, Issue 3, Pages 305–309
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782617030113
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. И. Клюй, В. Б. Лозинский, А. И. Липтуга, В. Н. Дикуша, А. П. Оксанич, М. Г. Когдась, А. Л. Перехрест, С. Э. Притчин, “Влияние имплантации H$^{+}$ на оптические свойства кристаллов полуизолирующего арсенида галлия в ИК-области спектра”, Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 317–321; Semiconductors, 51:3 (2017), 305–309
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KlyLozLip17}
\by Н.~И.~Клюй, В.~Б.~Лозинский, А.~И.~Липтуга, В.~Н.~Дикуша, А.~П.~Оксанич, М.~Г.~Когдась, А.~Л.~Перехрест, С.~Э.~Притчин
\paper Влияние имплантации H$^{+}$ на оптические свойства кристаллов полуизолирующего арсенида галлия в ИК-области спектра
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2017
\vol 51
\issue 3
\pages 317--321
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6202}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2017.03.44200.8267}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29006019}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2017
\vol 51
\issue 3
\pages 305--309
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782617030113}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6202
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i3/p317
  • Эта публикация цитируется в следующих 8 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:23
    PDF полного текста:6
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024