|
Эта публикация цитируется в 11 научных статьях (всего в 11 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Поверхностное наноструктурирование в системе углерод–кремний (100) при микроволновой плазменной обработке
Р. К. Яфаров, В. Я. Шаныгин Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Рассмотрены физико-химические процессы и механизмы влияния плазменной подготовки поверхности на закономерности конденсации и поверхностные фазовые превращения при формировании масковых кремний-углеродных доменов на кристаллах кремния (100) $p$-типа при осаждении субмонослойных углеродных покрытий в СВЧ-плазме паров этанола низкого давления. Показано, что при кратковременных длительностях осаждения углерода на кремниевые пластины с естественным оксидным покрытием при температуре 100$^\circ$C наблюдается формирование доменов с латеральными размерами от 10–15 до 200 нм, а высоты выступов, полученных плазмохимическим травлением кремния через доменные масковые покрытия, изменяются в интервале от 40 до 80 нм.
Поступила в редакцию: 14.02.2016 Принята в печать: 27.09.2016
Образец цитирования:
Р. К. Яфаров, В. Я. Шаныгин, “Поверхностное наноструктурирование в системе углерод–кремний (100) при микроволновой плазменной обработке”, Физика и техника полупроводников, 51:4 (2017), 558–562; Semiconductors, 51:4 (2017), 531–535
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6194 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i4/p558
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 38 | PDF полного текста: | 11 |
|