Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 8, страницы 1138–1145
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2017.08.44803.8517a
(Mi phts6083)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Влияние растворителя сульфида аммония на пассивацию поверхности GaSb(100)

М. В. Лебедев, Т. В. Львова, С. И. Павлов, И. В. Седова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Методами рентгеновской фотоэмиссионной спектроскопии и сканирующей электронной микроскопии исследовано влияние растворителя на химический состав сульфидного слоя, образующегося на поверхности GaSb(100). Обработка поверхности GaSb(100) в растворах сульфида аммония приводит к формированию толстого (несколько десятков нанометров) покрытия, представляющего собой смесь различных бинарных и тройных сульфидов галлия и сурьмы. Обнаружено различие химического состава пассивирующих сульфидных слоев, сформированных в водном и спиртовом растворах сульфида аммония. Отжиг сульфидного слоя при 360$^\circ$C приводит к частичной десорбции сурьмы и распаду тройных сульфидов на бинарные составляющие.
Поступила в редакцию: 17.01.2017
Принята в печать: 15.02.2017
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2017, Volume 51, Issue 8, Pages 1093–1100
DOI: https://doi.org/10.1134/S106378261708019X
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. В. Лебедев, Т. В. Львова, С. И. Павлов, И. В. Седова, “Влияние растворителя сульфида аммония на пассивацию поверхности GaSb(100)”, Физика и техника полупроводников, 51:8 (2017), 1138–1145; Semiconductors, 51:8 (2017), 1093–1100
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LebLvoPav17}
\by М.~В.~Лебедев, Т.~В.~Львова, С.~И.~Павлов, И.~В.~Седова
\paper Влияние растворителя сульфида аммония на пассивацию поверхности GaSb(100)
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2017
\vol 51
\issue 8
\pages 1138--1145
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6083}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2017.08.44803.8517a}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29938296}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2017
\vol 51
\issue 8
\pages 1093--1100
\crossref{https://doi.org/10.1134/S106378261708019X}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6083
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i8/p1138
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024