|
Эта публикация цитируется в 49 научных статьях (всего в 49 статьях)
Углеродные системы
Исследование кристаллической и электронной структуры графеновых пленок, выращенных на 6$H$-SiC (0001)
В. Ю. Давыдовab, Д. Ю. Усачёвc, С. П. Лебедевa, А. Н. Смирновba, В. С. Левицкийa, И. А. Елисеевca, П. А. Алексеевa, М. С. Дунаевскийa, О. Ю. Вилковc, А. Г. Рыбкинc, А. А. Лебедевa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
c Санкт-Петербургский государственный университет
Аннотация:
С использованием спектроскопии комбинационного рассеяния света, атомно-силовой микроскопии, дифракции медленных электронов, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, фотоэлектронной спектроскопии с угловым разрешением и спектроскопии рентгеновского поглощения вблизи $K$-края углерода изучены структурные, химические и электронные свойства эпитаксиальных графеновых пленок, выращенных методом термического разложения Si-грани полуизолирующей подложки 6$H$-SiC в среде аргона. Показано, что результаты систематических комплексных исследований позволили оптимизировать ростовые параметры и создать надежную технологию роста высококачественных однослойных пленок графена с небольшой долей включений двухслойного графена.
Поступила в редакцию: 31.01.2017 Принята в печать: 08.02.2017
Образец цитирования:
В. Ю. Давыдов, Д. Ю. Усачёв, С. П. Лебедев, А. Н. Смирнов, В. С. Левицкий, И. А. Елисеев, П. А. Алексеев, М. С. Дунаевский, О. Ю. Вилков, А. Г. Рыбкин, А. А. Лебедев, “Исследование кристаллической и электронной структуры графеновых пленок, выращенных на 6$H$-SiC (0001)”, Физика и техника полупроводников, 51:8 (2017), 1116–1124; Semiconductors, 51:8 (2017), 1072–1080
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6080 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v51/i8/p1116
|
|