Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 3, страницы 327–332
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2018.03.45616.8741
(Mi phts5892)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Электронные свойства полупроводников

Образование радиационных дефектов в слабо легированных слоях $n$- и $p$-SiC при торможении протонов

В. В. Козловскийa, А. Э. Васильевa, П. А. Карасевa, А. А. Лебедевb

a Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Путем математического моделирования каскада смещения в SiC рассмотрены особенности генерации пар Френкеля при рассеянии протонов с энергией 8 и 15 МэВ. Рассчитаны гистограммы распределения энергий, полученных не только первично выбитыми атомами, но и атомами отдачи, генерируемыми в каскадах смещений. При анализе гистограмм рассмотрены две области энергий. В первой области “малых” энергий преобладает процесс спонтанной рекомбинации генетически родственных пар Френкеля. Атомы отдачи второй области обладают большей энергией, позволяющей покинуть зону спонтанной рекомбинации и диссоциировать на изолированные компоненты. Проведено экспериментальное исследование процесса компенсации слабо легированных образцов $n$- и $p$-4$H$-SiC, выращенных методом газофазовой эпитаксией, при облучении протонами с энергией 8 и15 МэВ. Измерены скорости удаления носителей заряда. Проведено сравнение расчетных и экспериментальных данных и получены оценки размеров зоны спонтанной рекомбинации.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 16-12-10106
Настоящая работа выполнена при поддержке гранта РНФ № 16-12-10106.
Поступила в редакцию: 09.10.2017
Принята в печать: 18.10.2017
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2018, Volume 52, Issue 3, Pages 310–315
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618030132
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. В. Козловский, А. Э. Васильев, П. А. Карасев, А. А. Лебедев, “Образование радиационных дефектов в слабо легированных слоях $n$- и $p$-SiC при торможении протонов”, Физика и техника полупроводников, 52:3 (2018), 327–332; Semiconductors, 52:3 (2018), 310–315
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KozVasKar18}
\by В.~В.~Козловский, А.~Э.~Васильев, П.~А.~Карасев, А.~А.~Лебедев
\paper Образование радиационных дефектов в слабо легированных слоях $n$- и $p$-SiC при торможении протонов
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2018
\vol 52
\issue 3
\pages 327--332
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5892}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2018.03.45616.8741}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=32739683}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2018
\vol 52
\issue 3
\pages 310--315
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782618030132}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5892
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i3/p327
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:43
    PDF полного текста:15
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024