Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 5, страница 523 (Mi phts5849)  

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

XXV International Symposium ''Nanostructures: Physics and Technology'', Saint Petersburg, June 26-30, 2017
Nanostructure Technology

Effect of epitaxial alignment on electron transport from quasi-two-dimensional iron silicide $\alpha$-FeSi$_{2}$ nanocrystals into $p$-Si(001)

I. A. Tarasov, M. V. Rautskii, I. A. Yakovlev, M. N. Volochaev

Kirensky Institute of Physics, Federal Research Centre KSC, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences, 660036 Krasnoyarsk, Russia
Аннотация: Self-assembled growth of $\alpha$-FeSi$_{2}$ nanocrystal ensembles on gold-activated and gold-free Si(001) surface by molecular beam epitaxy is reported. The microstructure and basic orientation relationship (OR) between the silicide nanocrystals and silicon substrate were analysed. The study reveals that utilisation of the gold as catalyst regulates the preferable OR of the nanocrystals with silicon and their habitus. It is shown that electron transport from $\alpha$-FeSi$_{2}$ phase into $p$-Si(001) can be tuned by the formation of (001)–or (111)–textured $\alpha$-FeSi$_{2}$ nanocrystals ensembles. A current-voltage characteristic of the structures with different preferable epitaxial alignment ($\alpha$-FeSi$_{2}$(001)/Si(100) and $\alpha$-FeSi$_{2}$(111)/Si(100)) shows good linearity at room temperature. However, it becomes non-linear at different temperatures for different ORs due to different Schottky barrier height governed by a particular epitaxial alignment of the $\alpha$-FeSi$_{2}$/$p$-Si interfaces.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 16-42-243060
16-42-243035
17-42-190308
The work was supported by the Russian Foundation for Basic Research, Government of Krasnoyarsk Territory, Krasnoyarsk Region Science and Technology Support Fund to the research projects No 16-42-243060 and 16-42-243035 and Russian Foundation for Basic Research, Government of The Republic of Khakassia, research project No 17-42-190308.
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2018, Volume 52, Issue 5, Pages 654–659
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618050330
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: I. A. Tarasov, M. V. Rautskii, I. A. Yakovlev, M. N. Volochaev, “Effect of epitaxial alignment on electron transport from quasi-two-dimensional iron silicide $\alpha$-FeSi$_{2}$ nanocrystals into $p$-Si(001)”, Физика и техника полупроводников, 52:5 (2018), 523; Semiconductors, 52:5 (2018), 654–659
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{TarRauYak18}
\by I.~A.~Tarasov, M.~V.~Rautskii, I.~A.~Yakovlev, M.~N.~Volochaev
\paper Effect of epitaxial alignment on electron transport from quasi-two-dimensional iron silicide $\alpha$-FeSi$_{2}$ nanocrystals into $p$-Si(001)
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2018
\vol 52
\issue 5
\pages 523
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5849}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=32740387}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2018
\vol 52
\issue 5
\pages 654--659
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782618050330}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5849
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i5/p523
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024