|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Многообразие свойств приборных структур на основе нитридов элементов III группы, связанное с модификацией фрактально-перколяционной системы
В. В. Емцевa, Е. В. Гущинаa, В. Н. Петровa, Н. А. Тальнишнихb, А. Е. Черняковb, Е. И. Шабунинаa, Н. М. Шмидтa, А. С. Усиковc, А. П. Карташоваa, А. А. Зыбинd, В. В. Козловскийe, М. Ф. Кудояровa, А. В. Сахаровa, Г. А. Оганесянa, Д. С. Полоскинa, В. В. Лундинa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b НТЦ микроэлектроники Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
c Nitride Crystals Inc., 181 E Industry Ct., Ste. B, Deer Park,
NY 11729, USA
d ЗАО "Светлана-Электронприбор", г. Санкт-Петербург
e Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Аннотация:
Фрактально-перколяционная система, включающая протяженные дефекты и случайные флуктуации состава твердого раствора, формируется в процессе роста приборных структур на основе нитридов элементов III группы. Установлено, что свойства этой системы определяются не только условиями роста. Показано, что многообразие электрических и оптических свойств светодиодов InGaN/GaN, излучающих на длинах волн 450–460 и 519–530 нм, а также электрофизических свойств HEMT-структур AlGaN/GaN вызвано модификацией свойств фрактально-перколяционной системы как в процессе роста, так и под действием инжекционного тока и радиационных воздействий. Обсуждается влияние этих особенностей на срок службы светоизлучающих приборов и надежность HEMT-структур AlGaN/GaN.
Поступила в редакцию: 21.12.2017 Принята в печать: 25.12.2017
Образец цитирования:
В. В. Емцев, Е. В. Гущина, В. Н. Петров, Н. А. Тальнишних, А. Е. Черняков, Е. И. Шабунина, Н. М. Шмидт, А. С. Усиков, А. П. Карташова, А. А. Зыбин, В. В. Козловский, М. Ф. Кудояров, А. В. Сахаров, Г. А. Оганесян, Д. С. Полоскин, В. В. Лундин, “Многообразие свойств приборных структур на основе нитридов элементов III группы, связанное с модификацией фрактально-перколяционной системы”, Физика и техника полупроводников, 52:7 (2018), 804–811; Semiconductors, 52:7 (2018), 942–949
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5794 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i7/p804
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 72 | PDF полного текста: | 21 |
|