|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Электронные свойства полупроводников
Фотопорог слоистого кристалла $\alpha$-GeS: расчет из первых принципов
З. А. Джахангирлиab, Ф. М. Гашимзадеa, Д. А. Гусейноваa, Б. Г. Мехтиевa, Н. Б. Мустафаевa a Институт физики НАН Азербайджана, Баку, Азербайджан
b Азербайджанский технический университет, г. Баку
Аннотация:
Из первых принципов на основе метода функционала плотности рассчитан фотопорог слоистого кристалла $\alpha$-GeS в зависимости от его толщины. Для моделирования кристалла конечной толщины использовался метод периодических пластин. Две соседние кристаллические пластины, состоящие из нескольких слоев, разделялись вакуумом толщиной в 4 слоя, что соответствует удвоенному размеру элементарной ячейки объемного кристалла. Показано, что при толщине кристалла более 10 слоев величина фотопорога практически не меняется.
Поступила в редакцию: 04.04.2017 Принята в печать: 29.11.2017
Образец цитирования:
З. А. Джахангирли, Ф. М. Гашимзаде, Д. А. Гусейнова, Б. Г. Мехтиев, Н. Б. Мустафаев, “Фотопорог слоистого кристалла $\alpha$-GeS: расчет из первых принципов”, Физика и техника полупроводников, 52:7 (2018), 699–701; Semiconductors, 52:7 (2018), 840–842
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5775 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i7/p699
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 51 | PDF полного текста: | 14 |
|