Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 8, страницы 944–948
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2018.08.46224.8750
(Mi phts5768)
 

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Физика полупроводниковых приборов

Влияние глубоких центров на статистическую задержку микроплазменного пробоя в арсенид-галлиевых светодиодах

В. К. Ионычев, А. А. Шестеркина

Мордовский государственный университет
Аннотация: Проведено исследование статистической задержки пробоя микроплазмы в арсенид-галлиевых светодиодах. Обнаружено существенное влияние глубоких центров на микроплазменный пробой арсенид-галлиевых $p$$n$-переходов. Показано, что при изменении зарядового состояния глубоких центров снижением обратного напряжения на $p$$n$-переходе, статистическая задержка микроплазменного пробоя позволяет оценивать энергетический спектр глубоких уровней в микроплазменном канале. В температурном диапазоне 250–350 K обнаружено влияние трех глубоких уровней и определены их параметры.
Поступила в редакцию: 11.10.2017
Принята в печать: 19.12.2017
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2018, Volume 52, Issue 8, Pages 1072–1076
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618080080
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. К. Ионычев, А. А. Шестеркина, “Влияние глубоких центров на статистическую задержку микроплазменного пробоя в арсенид-галлиевых светодиодах”, Физика и техника полупроводников, 52:8 (2018), 944–948; Semiconductors, 52:8 (2018), 1072–1076
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{IonShe18}
\by В.~К.~Ионычев, А.~А.~Шестеркина
\paper Влияние глубоких центров на статистическую задержку микроплазменного пробоя в арсенид-галлиевых светодиодах
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2018
\vol 52
\issue 8
\pages 944--948
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5768}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2018.08.46224.8750}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=35269441}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2018
\vol 52
\issue 8
\pages 1072--1076
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782618080080}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5768
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i8/p944
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:23
    PDF полного текста:6
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024