Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 10, страницы 1150–1171
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2018.10.46455.8620
(Mi phts5709)
 

Эта публикация цитируется в 8 научных статьях (всего в 8 статьях)

Физика полупроводниковых приборов

Влияние электростатического поля периферии на вентильный фотоэффект в контактах металл-полупроводник с барьером Шоттки

Н. А. Торховabc

a Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов, Томск
b Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники
c Национальный исследовательский Томский государственный университет
Аннотация: Исследования электростатической системы плоских контактов металл-полупроводник с барьером Шоттки выявили нетривиальную зависимость их токовой и вольтовой фоточувствительностей (вентильного фотоэффекта) от формы контактов. Особенности использования вентильного фотоэффекта в таких контактах во многом определяются встроенным электростатическим полем периферии, модуль которого зависит от периметра и площади контактов. Таким образом, повышение эффективности преобразования контактами Шоттки световой энергии в электрическую требует использования методов оптимизации, в основе которых лежат изложенные в данной работе положения физической модели электростатической системы плоских контактов Шоттки с учетом электростатических полей периферии. Эффект “резонанса горячих электронов”, приводящий к увеличению внешней квантовой эффективности фотодиодов с барьером Шоттки, может быть объяснен усилением полевой эмиссии электронов электростатическим полем периферии.
Финансовая поддержка Номер гранта
Министерство образования и науки Российской Федерации 8.4029.2017/4.6
Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки РФ. Уникальный идентификатор 8.4029.2017/4.6.
Поступила в редакцию: 20.04.2017
Принята в печать: 04.12.2017
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2018, Volume 52, Issue 10, Pages 1269–1292
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618100202
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. А. Торхов, “Влияние электростатического поля периферии на вентильный фотоэффект в контактах металл-полупроводник с барьером Шоттки”, Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1150–1171; Semiconductors, 52:10 (2018), 1269–1292
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Tor18}
\by Н.~А.~Торхов
\paper Влияние электростатического поля периферии на вентильный фотоэффект в контактах металл-полупроводник с барьером Шоттки
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2018
\vol 52
\issue 10
\pages 1150--1171
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5709}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2018.10.46455.8620}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=36903574}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2018
\vol 52
\issue 10
\pages 1269--1292
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782618100202}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5709
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i10/p1150
  • Эта публикация цитируется в следующих 8 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:47
    PDF полного текста:27
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024