|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники
Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи
А. В. Белолипецкий, М. О. Нестоклон, И. Н. Яссиевич Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Изучен вопрос оптимального выбора параметров эмпирического метода сильной связи для моделирования уровней размерного квантования кремниевых нанокристаллов, внедренных в аморфную матрицу SiO$_{2}$. Для учета туннелирования из нанокристаллов в SiO$_{2}$ аморфная матрица рассматривалась как виртуальный кристалл с зонной структурой, подобной зонной структуре $\beta$-кристобалита SiO$_{2}$, согласованный по величине постоянной решетки с объемным кремнием. В широком энергетическом интервале вычислены распределения электронной плотности в $\mathbf{k}$-пространстве для электронов и дырок, размерно-квантованных в кремниевом нанокристалле в SiO$_{2}$, что позволяет наглядно увидеть возможность существования эффективных прямых оптических переходов для “горячих” электронов на верхних уровнях размерного квантования.
Поступила в редакцию: 12.03.2018 Принята в печать: 19.03.2018
Образец цитирования:
А. В. Белолипецкий, М. О. Нестоклон, И. Н. Яссиевич, “Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи”, Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1145–1149; Semiconductors, 52:10 (2018), 1264–1268
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5708 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i10/p1145
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 64 | PDF полного текста: | 23 |
|