Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 10, страницы 1145–1149
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2018.10.46454.8859
(Mi phts5708)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники

Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи

А. В. Белолипецкий, М. О. Нестоклон, И. Н. Яссиевич

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Изучен вопрос оптимального выбора параметров эмпирического метода сильной связи для моделирования уровней размерного квантования кремниевых нанокристаллов, внедренных в аморфную матрицу SiO$_{2}$. Для учета туннелирования из нанокристаллов в SiO$_{2}$ аморфная матрица рассматривалась как виртуальный кристалл с зонной структурой, подобной зонной структуре $\beta$-кристобалита SiO$_{2}$, согласованный по величине постоянной решетки с объемным кремнием. В широком энергетическом интервале вычислены распределения электронной плотности в $\mathbf{k}$-пространстве для электронов и дырок, размерно-квантованных в кремниевом нанокристалле в SiO$_{2}$, что позволяет наглядно увидеть возможность существования эффективных прямых оптических переходов для “горячих” электронов на верхних уровнях размерного квантования.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 16-02-00337
18-52-54002
Российская академия наук - Федеральное агентство научных организаций 31
Работа выполнена при частичной поддержке грантов РФФИ 16-02-00337, 18-52-54002 и программы № 31 Президиума РАН.
Поступила в редакцию: 12.03.2018
Принята в печать: 19.03.2018
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2018, Volume 52, Issue 10, Pages 1264–1268
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618100020
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. В. Белолипецкий, М. О. Нестоклон, И. Н. Яссиевич, “Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи”, Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1145–1149; Semiconductors, 52:10 (2018), 1264–1268
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BelNesYas18}
\by А.~В.~Белолипецкий, М.~О.~Нестоклон, И.~Н.~Яссиевич
\paper Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2018
\vol 52
\issue 10
\pages 1145--1149
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5708}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2018.10.46454.8859}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=36903573}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2018
\vol 52
\issue 10
\pages 1264--1268
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782618100020}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5708
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v52/i10/p1145
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:64
    PDF полного текста:23
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024