|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Получение пористого кремния путем спекания нанопорошка
Е. В. Астрова, В. Б. Воронков, А. В. Нащекин, А. В. Парфеньева, Д. А. Ложкина, М. В. Томкович, Ю. А. Кукушкина Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Хорошо известный способ получения слоев макропористого кремния с помощью электрохимического и фотоэлектрохимического травления монокристаллических пластин является малопроизводительным и дорогим. В качестве альтернативного метода получения объемного макропористого кремния можно использовать высокотемпературное спекание порошка Si. В работе проведены исследования процесса спекания нанопорошка, предварительно прошедшего холодную компрессию всухую (без связующих добавок). Изучены свойства полученного материала (микроструктура, плотность и электропроводность) в зависимости от температуры и времени отжига. Обсуждаются способы изменения пористости спеченных образцов и методы определения площади внутренней поверхности.
Поступила в редакцию: 12.11.2018 Исправленный вариант: 22.11.2018 Принята в печать: 26.11.2018
Образец цитирования:
Е. В. Астрова, В. Б. Воронков, А. В. Нащекин, А. В. Парфеньева, Д. А. Ложкина, М. В. Томкович, Ю. А. Кукушкина, “Получение пористого кремния путем спекания нанопорошка”, Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019), 540–549; Semiconductors, 53:4 (2019), 530–539
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts5549 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i4/p540
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 46 | PDF полного текста: | 19 |
|